哈工大（深圳）宣（常溪/文 孙文钊/图）11月4日-8日，2017年中韩低维电子与光子材料与器件双边论坛在校区举行。来自中韩两国的30余名知名教授共聚一堂，围绕低维电子以及光子材料与器件的制备和应用这一世界科技前沿问题，进行了深入探讨和交流。校区筹建办成员孙秀冬、韩国西江大学联合主席Hyeonsik Cheong出席研讨会并致开幕词。

孙秀冬对中韩两国专家的到来表示热烈欢迎。她说，深圳是一个令人赞叹的城市，以科技的高速发展和技术的不断创新闻名于世，相信此行能给各位学者留下深刻的印象。她介绍说，校区于2016年开始招收本科生，建立了本科、硕士、博士完备的教学体系。她表示，论坛已经举办了多届，也逐渐吸引了越来越多的年轻学者加入研究队伍，产生了更多思想碰撞的火花。她期待在深圳舒适的气候和清新的空气中，与会人员能充分享受会议，寻求更多合作。

Hyeonsik Cheong表示很高兴来到深圳，很荣幸能够成为论坛的组织者。他表示，中韩两国科学家在电子与光子材料领域的交流源远流长，可追溯到1994年，即两国邦交关系正式建立的第三个年头。他表示，自己从2001年起首次参与到两国科学家的交流活动中，在光子材料等领域进行了深入研讨，收获良多。他期待与会人员借此次论坛之机，增进双边友谊，增进双边科技合作。

据悉，本次论坛分为会议和实地考察两个部分，旨在汇集中韩两国在该领域的知名专家和学者，交流最新研究成果，加强双边科研人员的相互了解，讨论该领域面临的机遇与挑战。本次论坛共邀请该领域知名教授33名，中方代表分别来自清华大学、北京大学、复旦大学等15所高校和科研院所，韩国代表则是来自首尔国立大学、西江大学等12所高校和科研院所的知名专家。与会专家的研究领域涉及层状二维材料光电特性与器件，氮化物材料与器件，薄膜材料与器件等。会议优秀论文将推荐到学术刊物Nanoscale Research Letters上发表。

校区筹建办成员孙秀冬致开幕词

韩国西江大学联合主席Hyeonsik Cheong致开幕词

合影留念